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臺積電擬加大在大陸競爭實(shí)力 呼吁放寬技術(shù)限制

2007-03-16 11:23 出處:PConline 作者:Phoneme 責(zé)任編輯:zhengzhihui

  雖然坊間傳聞的Intel將在中國建造新的晶圓廠一事尚未得到Intel方面的證實(shí),但臺灣最大的半導(dǎo)體制造企業(yè)臺積電(TSMC)主席張忠謀(Morris Chang)近日再次向臺灣地區(qū)“政府”呼吁減小對臺企在大陸使用高新技術(shù)的限制,以保證公司具有競爭力。

  據(jù)媒體報(bào)道,從中國發(fā)改委透露出的消息稱,Intel將在中國大連建造一間使用90nm工藝,月產(chǎn)52000塊12英寸晶圓的新工廠。Intel方面則一直拒絕就此發(fā)表評論。

  張忠謀表示,中國現(xiàn)在正積極尋求與Intel合作建立新的晶圓廠。由于該工廠使用90nm工藝,因此該廠如果真的按計(jì)劃建立,Intel還需征得美國政府的同意。即根據(jù)多邊國際組織瓦森那協(xié)議(Wassenaar Arrangement),Intel在中國建立技術(shù)先進(jìn)的半導(dǎo)體工廠必須得到美國政府認(rèn)可。

  據(jù)消息稱,Intel計(jì)劃向中國引進(jìn)比當(dāng)前主流工藝僅落后一至兩代的半導(dǎo)體工藝,張忠謀指出當(dāng)前最先進(jìn)的工藝是45nm,在兩年內(nèi)將達(dá)到32nm。如果上述傳聞屬實(shí),Intel在大連的晶圓廠將使用65nm工藝。這就意味著Intel在中國大陸的半導(dǎo)體制造工藝將超越臺積電的水平。根據(jù)臺灣地區(qū)“政府”的相關(guān)限制,臺積電現(xiàn)在在中國大陸晶圓廠僅使用180nm的工藝。

  張忠謀最后表示,如果臺灣“政府”再不放寬對技術(shù)的限制,臺積電和其他臺灣企業(yè)將在技術(shù)上落后于人。

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